عنوان پایان‌نامه
ایجاد لایه پوشش نیترید کربن به وسیله دستگاه پلاسمای کانونی
- رشته تحصیلی
- فیزیک-اتمی‌ملکولی
- مقطع تحصیلی
- کارشناسی ارشد
- محل دفاع
- کتابخانه مرکزی -تالار اطلاع رسانی شماره ثبت: 74878;کتابخانه مرکزی -تالار اطلاع رسانی شماره ثبت: 74878
- تاریخ دفاع
- ۲۰ تیر ۱۳۹۵
- دانشجو
- عابد محمدزاده
- استاد راهنما
- سیدمجتبی فرزین آقامیر
- چکیده
- چکیده در این پروژه از یک دستگاه پلاسمای کانونی 5/2 کیلوژول با حداکثر ولتاژ 30 کیلوولت برای کاشت یون‌های نیتروژن روی زیر لایه‌های گرافیت استفاده‌شده است. آند از جنس مس می‌باشد که برای کاهش اتم های مس به‌عنوان ناخالصی در زیر لایه و نیز برای اجتناب از گسیل پرتوهای ایکس اضافی از نوک آند، به خاطر بمباران الکترون‌ها، به شکل توخالی ساخته‌شده است. گاز مورداستفاده در محفظه پلاسمای کانونی نیتروژن می‌باشد. همه فرایندها در دمای اتاق انجام‌شده است و نمونه‌ها در فواصل و زوایای مختلف نسبت به سر آند قرار داده‌شده‌اند. ساختارهای بلوری تشکیل‌شده در این نمونه‌ها به‌وسیله آنالیز پراش پرتوایکس (XRD)، نانو ساختارها به‌وسیله میکروسکپ الکترونی روبشی (SEM) بررسی‌شده‌اند. تشکیل پیوند بین نیتروژن و کربن نیز توسط آنالیز FTIR و نیز EDS تائید شدند. کلیدواژه¬ها: دستگاه پلاسمای کانونی، کاشت یون، گاز نیتروژن، گرافیت
- Abstract
- In this thesis we have used a 2,5 Kj plasma focus device with the maximum voltage of 30 Kv to conduct nitroge ion implantation on the Graphite substrates. The anode was made of copper and to decrease the copper atoms in substrates it was made in the shape of a hollow tube. This was done also to avoid emmision of X-rays from top of the anode which is under ion bombardement. The chamber was filled with nitrogen gas and all processes were done in room tempreture, substrates were in different distances and different angels respect to the centeral electrode. Crystallinity of samples were analyzed by XRD, and nano structures were analyzed by SEM. Formation of chemical bonds betweeen nitrogen and carbon were analyzed by FTIR and EDS. Keywords: Plasma focus device, nitrogen gas, ion implantation, graphite.
